中方3年突破光刻机技术！ASML首席执行官承认：将要失去全球市场

  光刻机，又叫做掩模对准曝光机、光刻系统等。基础原理是采用照片冲印类似的技术，通过曝光，将掩膜版上的图形印到硅片上，是目前制造芯片的关键设备。制造这种精密设备需要深厚的光学及电子工业基础，目前该行业被包括ASML、尼康、佳能、欧泰克在内的极少数几家外国厂家所垄断。基于以上两个原因，光刻机的价格非常昂贵，单价即可达到3000万至5亿美元左右。

  阿斯麦尔（ASML）首席执行官曾公开表示，欧美国家的高科技产品在15年后将会在东亚大国失去市场。这位首席执行官的危机意识非常强，他认为，如果阿斯麦尔拒绝出售光刻机，国内将会走上自主研发的道路，不出3年，就能够完全掌握光刻机技术，并且还能够成功降低其生产所带来的成本。当时，阿斯麦尔可能会失去竞争力，进而失去全世界内的光刻机市场。

  最近，美国总统拜登与韩国总统文在寅进行了会谈，并在芯片制造等方面达成了合作意向。如此一来，美国就能够对其战略竞争对手进行打压。其战略竞争对手也意识到掌握核心技术，自主制造芯片的重要性。科学技术在一个国家的发展过程中占据了逐渐重要的地位，为了规避西方国家的打压，我们很要建立自己的芯片供应链体系。目前，华为公司已经研制出了“麒麟”芯片，但由于缺少制造代工工厂，“麒麟”芯片目前已经没办法生产。光刻机就是这里面最重要的一环，光刻机的制造领域也被极少数的欧美厂家所把持，为了改变这一现状，国内的许多科技公司也开始在这样的领域加大投资力度，以支持国产光刻机的研发。功夫不负有心人，现在国内已经成功研发出了28nm规格的光刻机，预计能够在2021年年底投入使用。

  此外，国内激光打标设备领域的巨头企业，也开始在光刻机领域加大投入。据了解，该企业近九成的核心设备零件都依靠自主研发而来。作为一个研发型企业，未来进入光刻机领域时，具有一定的优势。目前，该企业已经取得了一定的成果，能够自主完成低端光刻机的小规模批量生产。这批量产的光刻机能够适用于生产LED基板、分立器件等。虽然还没能真正突破高端级别光刻机的研发，但至少在这样的领域迈出了自主研发的第一步，给国内众多科技公司增添了信心。正如阿斯麦尔首席执行官所预言的那样，我们肯定能在极短的时间内突破这个技术难关，做到芯片供应链的完全自主。

  事实上，我们从始至终都保持着这样的优良传统，在“冷战”时期，我们被西方国家围追堵截，仅依靠照片和玩具模型也成功造出了核潜艇。在被西方各国拒绝进入国际空间站后，我们开始自主建造自己的空间站，目前，“天和”号核心舱已经顺利升空。我们之所以能取得今天这样的成绩，正是由于我们这样独立自主，肯钻研、肯吃苦的精神。

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